高伟民

1985年获浙江大学光学工程学士学位。2000年获比利时鲁汶大学物理学博士学位。他先后就职于中国国家地震局、长飞光纤光缆有限公司、比利时微电子研发中心（imec）和美国新思科技（Synopsys）工作过。他于2018年加入阿斯麦公司任中国区技术总监。加入ASML之前10多年，他作为Synopsys代表在imec负责国际技术合作和联合研发项目的管理。高博士是资深的光刻技术专家，拥有超过20年先进光刻技术研发经验。他参与了从0.13微米到7纳米节点的多世代先进CMOS工艺中的光刻技术开发。他的技术专长涵盖了广泛的光刻领域，包括光刻工艺开发、光刻设备运行和管理、光刻成像技术、分辨率增强技术、计算光刻、光刻掩模、设计工艺协同优化技术和晶圆测试技术等，特别是过去的10多年中他专注于EUV光刻，在EUV光刻技术的开发和应用积累了丰富的经验。高博士在各种国际期刊和会议上发表了100多篇论文，并在多个国际会议上作邀请演讲。2020年12月入选为联盟的理事。